商務部表示，荷蘭進一步擴大對光刻機的管制範圍，中方對此表示不滿。荷蘭政府日前宣布，將擴大對半導體設備製造商阿斯麥ASML晶片生產設備，包括光刻機的出口管制，向中國出口舊型號的深紫外浸潤式光刻系統亦需申請出口許可。
商務部表示，荷方在2023年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對光刻機的管制範圍，近年來，美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業正當權益，中方對此堅決反對，要求荷方尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定